美光押注ASML新EUV 光刻设备，紧随三星电子和 SK 海力士
发布时间：2021-11-14 16:30:20 所属栏目：产品 来源：互联网
导读：美光日前宣布， 2021 财年（2020 年 9 月至 2021 年 8 月）资本支出将超过 95 亿美元，这比早些时候提出的90 亿美元目标增加了 5 亿美元。据悉，增加部分主要是美光向ASML采购极紫外（EUV）光刻机的预付款。 据BusinessKorea报道，美光计划在今年年底安装 ASM
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美光日前宣布， 2021 财年（2020 年 9 月至 2021 年 8 月）资本支出将超过 95 亿美元，这比早些时候提出的90 亿美元目标增加了 5 亿美元。据悉，增加部分主要是美光向ASML采购极紫外（EUV）光刻机的预付款。 据BusinessKorea报道，美光计划在今年年底安装 ASML新一代 EUV 光刻机 3600D。在将新设备正式投入量产之前，该公司预计会先在量产线上进行试验。 根据ASML的官方信息，3400C 是其最新一代光刻设备，支持 7 和 5 纳米节点的 EUV 量产。目前3600D具体信息还未出现在官方网页上。 （编辑：岳阳站长网） 【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容! |
